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원하시는 재료, 순도, 모양에 따라서 제작 가능합니다. (Any Material, Any shape can be supplied. Please send inquiry.)
i. 응용Bonding 방식 중 기술적으로 가장 어려운 방식으로 작업온도가 높은 반도체 공정에서 사용되는 sputtering target에 적용된다.
접합물질이 없이 target과 backing plate을 맞댄 상태에서 고온과 고압을 가하여 target과 backing plate간의 물질 확산(diffusion)에 의해 접합이 이루어지므로 bonding 비율, 열전도도 측면에서 가장 유리하다.
ii. 제품화어플라이드사이언스㈜는 자체적으로 생산한 반도체용 sputtering target 제품을 국내 반도체 회사에 납품하여 최종 품질 승인을 받은 바 있어, diffusion bonding에 대한 제조 기술 및 경험을 보유하고 있다.
Ti target diffusion bonding 초음파 scanning 단면 사진
접합율: 100%